Microhezao系列離子濺射儀，它的真空系統(tǒng)是由小型真空泵組成，能提供良好的真空濺射鍍膜環(huán)境，真空度可達(dá)0.1Pa。全自動(dòng)控制，只要一鍵操作就可以自動(dòng)完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程。儀器選用離子濺射鍍金屬膜，滿足高分辨率場(chǎng)發(fā)射電鏡的需求，可以獲得極其細(xì)膩的金屬膜，也可以用于電極樣品制備等特殊用途。
離子濺射儀集合了二極濺射模式之精華，并經(jīng)重新定義設(shè)計(jì)，獨(dú)特的電流與真空度記錄曲線相結(jié)合可以進(jìn)行常規(guī)的樣品制樣，還可以滿足各種復(fù)雜特殊材料的樣品制備要求，對(duì)于高分子薄膜，地質(zhì)材料，半導(dǎo)體材料等各種樣品的制備可以輕松應(yīng)用。
離子濺射儀-濺射過程
將需要濺射的樣品放入離子濺射儀的樣品倉中，蓋好樣品倉的外罩，可以打開真空泵的電源按鍵，開始進(jìn)行抽真空。
當(dāng)樣品倉中的剩余壓力或注入的惰性氣體的壓力在5Pa左右既可以接通濺射電源。
在靶材上加上負(fù)高壓，靶材與陽極之間構(gòu)成一個(gè)負(fù)高壓電場(chǎng)區(qū)域，腔體的殘余空氣或注入的惰性氣體就會(huì)被電離，帶正電的正離子被陰極吸引樁基靶材，產(chǎn)生輝光現(xiàn)象。
靶材釋放出來的原子或原子團(tuán)之間，以及它們與腔體其他殘余氣體、離子相互碰撞，金屬原子或原子團(tuán)四處發(fā)散形成霧狀，然后降落并沉積在試樣表面就會(huì)形成一層比較均勻而細(xì)膩的金屬膜。
濺射層的膜厚主要取決于濺射時(shí)間的長(zhǎng)短和濺射電流的大小。
濺射層金屬顆粒的細(xì)膩程度取決于靶材的成分、濺射方式、試樣的溫度、濺射電流的大小和試樣與靶材的距離，此外還與濺射的真空度有關(guān)，真空度越高，沖入的惰性氣體就會(huì)越純，濺射后形成的膜層傀儡也就越細(xì)膩。
離子濺射儀常用的靶材有金、金靶、鉑、鉻、銥等。
